9月7日，華為手機產品線副總裁李小龍在微博科普了一番麒麟990 5G使用的EUV(極紫外線)光刻工藝。

李小龍贊嘆道：“這次發布的麒麟990 5G使用了EUV(極紫外線)光刻工藝，光刻設備的波長從之前的193納米縮短到了10幾納米，這在半導體領域是非常大的一個突破。正是基于這項技術，我們才能夠在約200mm2的面積下集成了103億顆晶體管，幾乎比上一代產品增加了一半。”

但EUV究竟是什么呢？李小龍推薦了一篇科普文章，感興趣的讀者可以前往圍觀，簡單來說，EUV是極紫外光刻(Extreme Ultraviolet Lithography)的縮寫，常稱作EUV光刻，它以波長為10-14納米的極紫外光作為光源的光刻技術。

麒麟990 5G采用了臺積電的7nm+ EUV工藝，此前有消息稱，蘋果的A13也已經鎖定臺積電7nm+。

此外臺積電還透露， 正穩步推進下一代5nm工藝，全面應用EUV技術，已經開始風險性試產，預計2020年第一季度量產。另外臺積電還有個過渡性質的6nm工藝，基于7nm改進而來，預計2020年第一季度試產，非常適合現有7nm工藝用戶直接升級。
免責聲明：本網轉載自其它媒體的文章，目的在于弘揚科技創新精神，傳遞更多科技創新信息，并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責，在此我們謹向原作者和原媒體致以崇高敬意。如果您認為本站文章侵犯了您的版權，請與我們聯系，我們將第一時間刪除。